科学家研制出极低缺陷亚埃级粗糙度石英超光滑表面

时间：2023-06-14 15:50:33　来源：雅意学习网本文已影响人

中科院大连化学物理研究所化学激光研究中心研究员李刚、研究员金玉奇团队与生物能源化学品研究组合作，以自主合成的新型超细纳米氧化铈(CeO2)为抛光浆料，利用化学机械抛光(CMP)技术，加工出极低缺陷亚埃级(<0.1 nm)表面粗糙度的超光滑石英光学表面，并深入研究了加工过程中CeO2纳米颗粒与石英表面的物理及化学变化过程，进一步提升了对CMP抛光机制的理论认知。

石英玻璃因其优异的物理化学性能，是高能激光、激光陀螺、空间激光通信、短波光学等领域的优异基底材料，其加工后的表面质量(表面粗糙度及表面缺陷数量等)是制约此类高精密光学系统性能的“卡脖子”技术难题，极低缺陷亚埃级石英超光滑表面的高效加工具有挑战。当前，受限于对CMP抛光机制的认识不够深入、高端CeO2抛光浆料被美日等国寡头企业所垄断并对我国严格禁运，致使我国的CMP抛光工艺与国外尚存在较大差距。

研究人员首先制备了一类尺寸小、粒度分布窄的超细纳米CeO2抛光浆料，其平均一次粒径小于4 nm，然后通过CMP技术参数的调控和优化，实现了表面粗糙度(RMS)小于0.1 nm的极低缺陷石英光学表面的加工。对比研究发现：石英元件表面粗糙度主要受CeO2一次粒径尺寸和粒度分布影响，一次粒径尺寸越小，粒度分布越窄，越有利于超光滑表面的形成。这从“CeO2团聚强度”这一全新的角度，阐释了CeO2团聚强度是影响石英元件表面亚微米尺寸缺陷形成的关键因素。此外，通过对石英元件抛光去除速率以及表面接触角的分析，研究人员提出CeO2浆料中Ce3+促进了石英表面羟基的形成，进而提升了抛光去除速率的化学去除模型。

该研究工作对推动我国高端CeO2抛光浆料制备技术发展和提升我国超精密光学元件制造水平具有重要意义。

(来源：中国科学报)

猜你喜欢浆料粗糙度石英专利名称：电池浆料回收装置再生资源与循环经济(2022年9期)2022-11-20青藏高原高寒草甸的空气动力学粗糙度特征成都信息工程大学学报(2022年4期)2022-11-18锂离子电池正极浆料特性研究化工设计通讯(2022年5期)2022-05-25分散剂对二氧化硅微粉浆料流变性的影响陶瓷学报(2020年5期)2020-11-09中科院地质与地球物理研究所:首次在火星陨石中发现柯石英科学导报(2020年50期)2020-09-09介绍一个陶瓷坯、釉浆料稀释的经验公式山东陶瓷(2020年1期)2020-01-08冷冲模磨削表面粗糙度的加工试验与应用模具制造(2019年4期)2019-06-24关于宽带石英滤波器配套谐振器的选用电子制作(2018年14期)2018-08-21高速铣削TB6钛合金切削力和表面粗糙度预测模型制造技术与机床(2017年4期)2017-06-22基于BP神经网络的面齿轮齿面粗糙度研究制造技术与机床(2017年12期)2017-02-02

推荐访问:研制出光滑极低

科学家研制出极低缺陷亚埃级粗糙度石英超光滑表面

最新文章

热门文章