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    CdZnSe/ZnSeS/CdZnS红光量子点的合成及其在发光二极管中的应用

    时间:2023-06-10 13:40:17 来源:雅意学习网 本文已影响 雅意学习网手机站

    田乃氾,关锦城,吕柏希,孟凡源,李阳,陈钊,*

    (1.五邑大学应用物理与材料学院,广东 江门 529030;
    2.广东普加福光电科技有限公司,广东 江门 529020)

    由于具有高的光致发光量子产率(Photoluminescence quantum yields,PLQYs)、发光光谱在整个可见光范围内可调、较窄的发射峰、等优良的光学性质,胶体量子点(Quantum dots,QDs)能够作为一种高效的发光材料应用在发光二极管(Light-emitting diodes,LEDs)中,并在照明以及显示领域表现出重大的研究意义和商业应用前景[1-5]。众所周知,在量子点发光二极管中(QLEDs),器件的工作状态和性能主要取决于载流子是否能平衡的注入和复合[6-8]。因此,平衡载流子的注入是实现高效QLEDs的必要条件。然而,传统的量子点通常采用硫化锌(ZnS)作为其壳层结构,但是由于ZnS具有极深的价带(Valence band,VB为-6.9 eV),能够明显地增加空穴传输层(Hole transport layers,HTLs)到发光层(Emissive layers,EMLs)之间的 能 级差距(大 于1.5 eV)[8-12],导致QLEDs中空穴注入困难。同时,由于EMLs的能级与以氧化锌(ZnO)电子传输层(Electron transporting layers,ETLs)的能级十分匹配,所 以 电子极容易 从ZnO注入到EMLs[13-14]。另外,ZnO具有较高的电子迁移率。因此,在QLEDs中电子被过度注入到EML中,从而导致空穴和电子不平衡的分布和复合,这将显著增加器件内非辐射复合而造成明显的激子猝灭,降低了QLEDs的器件性能,使其具有高的启亮电压、低发光效率及明显的效率滚降[15-17]。

    为了解决QLEDs中载流子注入不平衡这一问题,研究者们通常采用如下策略:(1)在ZnO和QD EMLs之间插入绝缘层,从而阻挡电子向发光层注入;
    (2)使用具有稳定的最高占据分子轨道(The highest occupied molecular orbitals,HOMOs)能级的空穴传输材料,减小空穴从空穴传输材料的HOMO到量子点VBs的能垒;
    (3)通过定制量子点的结构,实现具有较浅VB能级的量子点发光材料,从而减小空穴注入的能垒[6,15-23]。2014年,浙江大学Peng等[6],通过在QDs和ZnO之间介入一层超薄绝缘层(聚甲基丙烯酸甲酯,PMMA)作为电子阻挡层(Electron blocking layer,EBL),阻挡电子过度注入,同时采用具有能级渐变的多个空穴传输层(如聚双(4-苯基)(4-丁基苯基)胺/聚乙烯基咔唑(Poly-TPD/PVK))逐渐降低空穴注入势垒,实现器件内平衡的载流子复合,使红色QLEDs的外量子效率(External quantum efficiency,EQE)达到20.5%,使用寿命达到1×105h,已达到商业化要求,是QLEDs器件发展中的一个里程碑[6]。但是,器件性能提升严重依赖于介电层的厚度,而纳米尺度的介电层极难制备和重复,限制了该策略的普适性。另外,值得注意的是这类器件的亮度较低、应用电压较高,这些限制了介电层大规模的应用。随后,Shen等[7]通过将硒(Se)元素贯穿到整个量子点的核/壳区域,设计 了 结 构 为CdSe/ZnCdSe/ZnSe、CdSe/ZnSe和ZnxCd1-xSe/ZnSe的红绿蓝三色(RGB)量子点,用这些量子点制备出的器件具有非常优异的性能,其峰值EQEs对应极高的亮度(L),如RGB QLEDs的EQEs分别为21.6%、22.9%、8.05%时对应的亮度分别为13300、52500和10100 cd·m-2。使用核/壳的内部都具有Se元素的量子点,稳定量子点的VB,从而更利于空穴从聚(9,9-二辛基芴-CO-N-(4-丁基苯基)二胺)(TFB)注入到QDs EML,有利于实现EMLs中平衡的载流子复合。然而,空穴从TFB的HOMO到ZnSe的VB的能量势垒(约1.3 eV)仍然较大,空穴注入难这一问题仍然没有很好地解决。

    本文提出了一种促进空穴注入的有效方法,即利用镉(Cd)掺杂的CdZnS作为最外层壳而合成了结构为CdZnSe/ZnSeS/CdZnS的量子点,从而调控量子点的VBs,使其能完美地匹配HTLs的HOMOs。文献[24-26]研究结果表明,空穴从TFB的HOMO到QD的VB的能垒缩小到1.0 eV以内,这有利于器件中的空穴注入。宽带隙的ZnSeS中间层用以有效地将载流子限制在量子点的发光中心(CdZnSe核),同时ZnSeS与CdZnSe核和最 外层CdZnS壳具有较好的晶格匹配,能够实现高晶体质量的量子点。因此,CdZnSe/ZnSeS/CdZnS具有高晶体质量、完美纳米结构、高发光性能(PLQY为94.4%)的特点。基于这些红色量子点的QLED表现出优异的性能,其EQE为18.5%,在低电压下具有较高的亮度(电压3 V时对应的亮度超过10 000 cd·m-2)。因此,CdZnS可以作为一种极好的最外层壳,实现高性能的QLED。

    1.1 量子点合成

    1.1.1 前驱体制备

    硒-三丁基膦(Se-TBP)前驱体(2 mol·L-1)的制备。首先,将780 mg的硒粉和5 mL的TBP溶液加入到25 mL的反应管中,在惰性环境下加热到80℃,反应1 h,得到Se-TBP透明溶液。然后,将256 mg的氧化镉(CdO)加入到50 mL的双颈烧瓶中,再加入10 mL的油酸(OA),将二者的混合物在135℃下脱气1 h后,在氮气下进行加热到280℃,反应1 h,得到0.2 mol·L-1的油酸镉(Cd(OA)2)前驱体,用于CdZnS壳的生长。按照Se-TBP前驱体制备的过程,准备硫前驱体(S-TBP)。所有前驱体都需保存在氮气环境中,除非需要加热,否则直接使用。

    1.1.2 CdZnSe/ZnSeS/CdZnS量子点

    将0.5 mmol的CdO、20 mmol的ZnO、20 mL的油酸和30 mL的十八烯(ODE)加入到500 mL的三颈烧瓶中并加热到80℃,待减压下形成透明溶液后在135℃下脱气1 h。在氮气的保护下将反应体系温度升高到300℃,形成Cd(OA)2和Zn(OA)2前驱体后迅速将1 mL的Se-TBP溶液注入烧瓶内,在300℃度下反应1 h,形成CdZnSe核(C)。为了在CdZnSe核表面形成ZnSeS壳,在上述反应液中注射0.5 mL的Se-TBP和0.5 mL的 十 二 硫 醇(DDT),随后在300℃下反应1 h,再注入0.2 mL的S-TBP(1 mol·L-1)和3 mL的Cd(OA)2前驱体溶液(0.2 mol·L-1),并在300℃下反应1 h,最终形成最外壳层CdZnS[27-31]。图1为CdZnSe/ZnSeS/CdZnS的核/壳结构量子点合成示意图。

    图1 CdZnSe/ZnSeS/CdZnS核/壳结构量子点合成示意图Figure 1 Schematic diagram of synthesis of the CdZnSe/ZnSeS/CdZnS core/shell structured quantum dots

    1.1.3 CdZnSe/ZnSeS/CdZnS量子点纯化

    待CdZnSe/ZnSeS/CdZnS量子点反应液冷却至室温后,向反应瓶中依次加入100 mL的正己烷和适量的乙酸乙酯,直至量子点完全沉淀,在6000 r·min-1的转速下离心20 min,获得粉末。将所得粉末再分散于正己烷中,按照上述纯化步骤,进行3次纯化,最终所得粉末稀释于正辛烷溶液中,配制成量子点溶液。

    1.2 器件制备

    制备器件前,将方阻约为35 Ω的氧化铟锡(ITO)基片在超声波清洗机中依次使用洗涤剂和去离子水进行清洗。首先将ITO基片用UV-O3进行表面处理45 min,再将聚(3,4-乙烯二氧噻吩)-聚(苯乙烯磺酸酯)(PEDOT∶PSS)涂抹在ITO基片上,150℃下退火15 min,得到厚40 nm的空穴注入层(HIL)。随后,把器件转移到充满N2的手套箱里,将空穴传输聚合物TFB(8 mg·mL-2的氯苯溶液)涂膜在HIL上,在120℃下退火10 min,得到厚30 nm的HTL层。将15 mg·mL-1的量子点正辛烷溶液旋涂在HTL上,90℃下退火5 min,得到厚约为20 nm的量子点薄膜。在低压条件下,通过热蒸发制 备 厚3 nm的 氧 化 钼(MoO3)和 厚100 nm的 铝(Al)电极。因此,单空穴器件的器件结构为ITO/PEDOT:PSS(40 nm)/TFB(30 nm)/QDs(约20 nm)/MoO3(3 nm)/Al(100 nm)。然 后,采 用ITO/ZnMgO(40 nm)/QDs(约20 nm)/ZnMgO(40 nm)/Al(100 nm)结构制备了单电子器件。其中,电子传输层是将20 mg·mL-1的ZnMgO乙醇溶液涂膜在衬底上,下层ZnMgO采用120℃下退火10 min,上层采用60℃下10 min。上述所有溶液加工 时,匀 胶 机 的转 速 均 为3000 r·min-1,时 间40 s。最后,采用相似的过程,制备出结构为ITO/PEDOT:PSS(40 nm)/TFB(30 nm)/QDs(约20 nm)/ZnMgO(40 nm)/Al(100 nm)的QLED器件[32]。

    1.3 性能表征

    采用透射电子显微镜(TEM,JEM-2100HR或JEM-3100F)表征量子点表面形貌及其纳米尺寸,并结合高角度环形暗场扫描透射电子显微镜(HAADF-STEM)与能量色散谱(EDS)分析量子点的化学成分和其核/壳结构[33]。采用紫外-可见吸收光谱(UV-vis,Lambda 950)、稳态和瞬态荧光光谱仪(爱丁堡仪器光谱仪FSL980)表征量子点溶液的光物理过程。使用Quantaurus-QY Plus C13534-12(日本浜松)测量量子点溶液PLQY。以上光物理测试中所用量子点正辛烷溶液的浓度约为0.5 mg·mL-1。

    2.1 量子点的形貌和粒径分析

    由于量子点的核/壳结构,所以它们呈现出球形形态。图2为量子点的透射电镜图。从图2可以看出,量子点具有连续的晶格条纹,没有观察到明显的晶格失配,表现出了完美的纳米结构。

    图2量子点的透射电镜图Figure 2 TEM images of the quantum dots

    图3为量子点的粒径分布统计。从图3可以看出,所合成的量子点粒径分布呈正态分布,总体颗粒直径在10.62—17.65 nm之间,平均晶粒尺寸为14.87 nm。

    图3 量子点的粒径分布统计Figure 3 Particle size distribution of the quantum dots

    为了确认量子点的最外层由Cd元素组成,利用HAADF-STEM和EDS元素映射得到量子点的元素 分 布 图[34]。图4为 量 子 点 的HAADF-STEM图及元素能谱图。从图4(a)—(d)可见,两个量子点之间的距离相等,量子点的最外层由Cd、Zn和S元素组成[35]。从图4(e)可见,每个量子点之间间隔较大,说明Se元素主要分布在量子点核内。

    图4量子点的HAADF-STEM图及元素能谱图Figure 4 HAADF-STEM image of the quantum dot and EDS elemental mappings of S,Cd,Se,Zn elements

    2.2 量子点的光学性能分析

    图5为紫外可见吸收光谱图。从图5可见,所合成的量子点的紫外-可见吸收光谱的吸收可延伸到600 nm以上,可以认为有较大粒径的胶体量子点生成,并表现出明显的自吸收过程。

    图5 量子点溶液的紫外-可见吸收和PL光谱图Figure 5 UV-vis absorption and PL spectra of the quantum dot solution PL decay curve

    为了更好地将电子和空穴的复合限制在CdZnSe核内,使用宽带隙的ZnSeS中间壳层,从而使核产生有效的辐射发光,而不是由其他壳层材料控制发光。图6为量子点溶液的PL衰减曲线。量子点溶液的单指数衰减曲线,对应其处于导带的受激电子退变到价带的本征辐射衰减过程。从图5可见:量子点的发射峰在630 nm左右,与尺寸为12.5 nm的具有相似结构的CdZnSe/ZnSe/ZnS/CdZnS量子点相比较,发现发射峰有明显的红移,这是由CdZnSe/ZnSeS/CdZnS的大尺寸效应引起的[24,36-38]。

    图6 量子点溶液的PL衰减曲线图Figure 6 PL decay curve of quantum dot solution under a 365 nm UV excitation

    在稀溶液中,这些红色量子点表现出强烈的荧光发射和较长的衰减寿命(τ),较长的τ值(τ=24.0 ns)表示稀溶液中相邻量子点纳米晶体之间的相互作用较小,从而限制了非辐射Förster共振能量转移(FRET)。图7为红光量子点溶液在UV激发下的图像。从图7可见,在波长365 nm的UV激发下,红光量子点溶液表现出明亮的红光,其对应的绝对荧光量子效率(QY)为95%。

    图7 量子点溶液的在365 nm紫外激发下的图像Figure 7 Image of quantum dot solution under a 365 nm UV excitation

    2.3 单载流子器件

    使用紫外光电子能谱图(UPS)分析量子点的价带能级,在测试过程中使用单色He I光源(21.21 eV)和VG Scienta R4000分析仪。图8为量子点的紫外光电子能谱图。从图8可见:真空能级到费米能级的距离大概为3.79 eV,费米能级到价带的偏移大概为2.37 eV;
    量子点的VB能级大约为-6.16 eV,与 传 统 的ZnS(VB为-6.9 eV)和ZnSe(VB为-6.5 eV)相比,能够明显缩小空穴传输聚合物HOMO到量子点VB能级之间的能带偏移,从而有利于空穴的注入,实现器件内部平衡的载流子分布。

    图8 量子点的紫外光电子能谱图Figure 8 The ultraviolet photoelectron spectroscopy image of the quantum dot

    为了验证如上观点,制备了单载流子器件,单电子和单空穴器件结构分别为ITO/ZnMgO/QD/ZnMgO/Al和ITO/PEDOT:PSS/TFB/QDs/MoO3/Al(见图9)。

    图9 单电子和单空穴器件结构图Figure 9 The structures of electron-only and hole-only devices

    图10为单载流子器件的电流密度-电压曲线。从图10可以看出:随着电压的增加电流密度逐渐变大,表明随着电压的增加越来越多的载流子被注入到量子点发光层中;
    单电子和单空穴器件表现出相接近的电流密度,说明其在相同的电压下通过量子点发光层的载流子是相匹配的,因此发光层中的载流子分布是平衡的。这可能是稳定的量子点VB能级减小了空穴从TFB HOMO到量子点VB的注入势垒,从而有利于器件内空穴的注入,增加了发光层的空穴浓度,从而使得空穴与电子的分布更加平衡。

    图10 单载流子器件的J-V图Figure 10 The J-V curves of these charge carrier-only devices

    2.4 量子点发光二极管性能表征

    采用溶液加工法在ITO阳极表面依次旋涂PEDOT:PSS(HIL)、TFB(HTL)、QD(EMLs)和ZnMgO(ETL),然后采用热蒸发法在ZnMgO顶部沉积厚100 nm的铝作为阴极,最后制备出红光QLED[32]。图11为QLED的结构及发光性能。从图11可见:QLED的发射波长约为628 nm,呈现红色发射,半峰全宽(FWHM)约为25 nm,对应的色坐 标(0.68,0.30)位 于 红 色 区 域;
    由 于TFB的HOMO(-5.33 eV)能级与量子点VB(-6.16 eV)之间的偏差较小,空穴能被有效地注入到量子点发光层中,器件表现出较低的开启电压(Von=1.7 V)和高亮度(L=1.89×104cd·m-2,3.3 V);
    器件的峰值电流(CE)及功率效率(PE)分别为31.8 cd·A-1和36.3 lm·W-1,对应峰值的EQE为18.5%;
    当初始亮度为10 000 cd·m-2时,器件的运行寿命为105 h。这主要是因为中间ZnSeS壳层的晶格与外部的CdZnS壳和内部的CdZnS核的晶格有良好的匹配,使量子点具有高质量的纳米结构;
    同时,宽带隙的ZnSeS壳层有效地将电子和空穴限制在CdZnSe发光层内,确保量子点较高的荧光量子产率;
    另一方面,使用CdZnS作为最外层壳显著降低了空穴从TFB的HOMO到量子点的VB的能垒[39]。因此,它保证了发光层内部空穴和电子平衡的分布,从而以实现高效的辐射复合和较高的外量子效率,并减缓了效率滚降。因此,高质量、高发光性能的量子点,以及QLED中有利的空穴注入的特点,使得器件具有高亮度、高效率和良好的稳定性。

    图11 QLED的结构及发光性能Figure 11 The Structure and electroluminescence performance of QLED

    本文设计并合成了核/壳结构为CdZnSe/ZnSeS/CdZnS的红光量子点。首先,中间ZnSeS层壳、CdZnSe核和CdZnS最外壳层之间没有明显的晶格失配,能够确保所合成的量子点具有较小的晶格应力;
    其次,宽带隙的中间壳层,能够实现有效的载流子和激子限制,能将它们有效的控制在发光中心并促进高效的光辐射。因此,能够获得高质量、高光学性能的量子点(PLQY为95%)。CdZnS核的使用能够明显缩小TFB与量子点之间的能带偏移,降低了空穴从TFB的HOMO到RQD的VB的能垒。因此,在QLED器件发光层中电子和空穴能更加平衡的分布和复合,以确保QLED的高效和稳定。表明,CdZnS可作为最外层壳结构,以实现高效的红光量子点,并且降低空穴注入势垒,实现QLED器件内部平衡的载流子复合。

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